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热生长Al_2O_3膜型M-A1纳米复合镀层及制备方法和应用
中国科学院金属研究所
2008
关键词M-A1纳米复合镀层 热生长Al2O3膜 制备
中文摘要本发明公开一种热生长Al_2O_3膜型M-Al纳米复合镀层及制备方法和应用。其成分为沉积的纳米晶金属M和弥散分布其中Al纳米颗粒的组合,其中M为Ni、Fe或Co;Al的含量按质量百分数计,为9.8~35%,余量为M。制备:以金属Ni、Fe或Co,碳钢或低合金钢为基材,在基材上采用共电沉积技术复合电镀金属M和Al镀层,制得Ni-Al、Fe-Al或Co-Al纳米复合镀层。本发明不仅工艺简单、成熟,易于推广;从经济角度讲,生产和维修成本低。与传统的用金属—微米级金属粉制备的复合镀层相比,还具有:1)复合量高且成分可控;2)镀层致密;3)纳米复合镀层不需要通过真空扩散处理,镀层在高温下可直接热生长保护性的Al_2O_3氧化膜等特点。200410069557.7
语种中文
内容类型成果
源URL[http://210.72.142.130/handle/321006/68926]  
专题金属研究所_中国科学院金属研究所
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GB/T 7714
中国科学院金属研究所. 热生长Al_2O_3膜型M-A1纳米复合镀层及制备方法和应用. . 2008.
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