| 具有窄光致发光谱的纳米Si晶薄膜的激光烧蚀制备 | |
| Wang, YL[1]; Lu, LF[2]; Yan, CY[3]; Chu, LZ[4]; Zhou, Y[5]; Fu, GS[6]; Peng, YC[7] | |
| 刊名 | 物理学报
 |
| 2005 | |
| 卷号 | 54期号:12页码:5738-5742 |
| 关键词 | 纳米Si晶粒 脉冲激光烧蚀 薄膜形貌 光致发光 |
| ISSN号 | 1000-3290 |
| DOI | http://dx.doi.org/10.3321/j.issn:1000-3290.2005.12.041 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 收录类别 | SCI(E) ; 中文核心期刊要目总览CSCD |
| WOS记录号 | WOS:000234259300041 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5990808 |
| 专题 | 河北大学 |
| 作者单位 | 1.河北大学物理科学与技术学院,保定,071002 2.河北大学电子信息工程学院,保定,071002 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Wang, YL[1],Lu, LF[2],Yan, CY[3],等. 具有窄光致发光谱的纳米Si晶薄膜的激光烧蚀制备[J]. 物理学报,2005,54(12):5738-5742. |
| APA | Wang, YL[1].,Lu, LF[2].,Yan, CY[3].,Chu, LZ[4].,Zhou, Y[5].,...&Peng, YC[7].(2005).具有窄光致发光谱的纳米Si晶薄膜的激光烧蚀制备.物理学报,54(12),5738-5742. |
| MLA | Wang, YL[1],et al."具有窄光致发光谱的纳米Si晶薄膜的激光烧蚀制备".物理学报 54.12(2005):5738-5742. |
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