| 全薄膜电致变色器件gIass/ITO/NiOx/ZrO2:H/WO3/ITO中单层膜的表征及器件的光学性能 | |
| 宋兴旺; 董国波; 刘齐荣; 刁训刚 | |
| 刊名 | 聊城大学学报（自然科学版）
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| 2016 | |
| 卷号 | 29页码:23-27 |
| 关键词 | 磁控溅射 全薄膜电致变色器件 透过率 |
| ISSN号 | 1672-6634 |
| DOI | 10.3969/j.issn.1672-6634.2016.01.006 |
| URL标识 | 查看原文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/5949482 |
| 专题 | 北京航空航天大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 宋兴旺,董国波,刘齐荣,等. 全薄膜电致变色器件gIass/ITO/NiOx/ZrO2:H/WO3/ITO中单层膜的表征及器件的光学性能[J]. 聊城大学学报（自然科学版）,2016,29:23-27. |
| APA | 宋兴旺,董国波,刘齐荣,&刁训刚.(2016).全薄膜电致变色器件gIass/ITO/NiOx/ZrO2:H/WO3/ITO中单层膜的表征及器件的光学性能.聊城大学学报（自然科学版）,29,23-27. |
| MLA | 宋兴旺,et al."全薄膜电致变色器件gIass/ITO/NiOx/ZrO2:H/WO3/ITO中单层膜的表征及器件的光学性能".聊城大学学报（自然科学版） 29(2016):23-27. |
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