Carbon induced galvanic etching of silicon in aerated HF/H2O vapor | |
Hu, Ya; Fu, Haoxin; Wang, Jiang; Sun, Ruinan; Wu, Lin; Liu, Ying; Xu, Jinhui; Liu, Jing; Peng, Kui-Qing | |
刊名 | Corrosion Science |
2019 | |
卷号 | 157 |
ISSN号 | 0010-938X |
DOI | 10.1016/j.corsci.2019.05.031 |
URL标识 | 查看原文 |
收录类别 | EI |
语种 | 英语 |
内容类型 | 期刊论文 |
URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/4240374 |
专题 | 武汉大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Hu, Ya,Fu, Haoxin,Wang, Jiang,et al. Carbon induced galvanic etching of silicon in aerated HF/H2O vapor[J]. Corrosion Science,2019,157. |
APA | Hu, Ya.,Fu, Haoxin.,Wang, Jiang.,Sun, Ruinan.,Wu, Lin.,...&Peng, Kui-Qing.(2019).Carbon induced galvanic etching of silicon in aerated HF/H2O vapor.Corrosion Science,157. |
MLA | Hu, Ya,et al."Carbon induced galvanic etching of silicon in aerated HF/H2O vapor".Corrosion Science 157(2019). |
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