| Plasmon-assisted nanojet lithography | |
| Wang, Shuangshuang; Ding, Tao | |
| 刊名 | NANOSCALE
 |
| 2019 | |
| 卷号 | 11期号:19 |
| ISSN号 | 2040-3364 |
| DOI | 10.1039/c8nr08834a |
| URL标识 | 查看原文 |
| 收录类别 | EI ; SCIE |
| 语种 | 英语 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/4215860 |
| 专题 | 武汉大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Wang, Shuangshuang,Ding, Tao. Plasmon-assisted nanojet lithography[J]. NANOSCALE,2019,11(19). |
| APA | Wang, Shuangshuang,&Ding, Tao.(2019).Plasmon-assisted nanojet lithography.NANOSCALE,11(19). |
| MLA | Wang, Shuangshuang,et al."Plasmon-assisted nanojet lithography".NANOSCALE 11.19(2019). |
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