Hydrogen annealing effects on epitaxy of SOI wafer
Cheng,XL ; Lin,ZL ; Wang,YJ ; Xiao,HB ; Feng,Z ; Zou,SC
刊名MATERIALS LETTERS
2005
卷号59期号:2-3页码:361-365
关键词SILICON-ON-INSULATOR SIMOX
ISSN号0167-577X
通讯作者Cheng, XL, Chinese Acad Sci, Shanghai Inst Microsyst & Informat Technol, Ion Beam Lab, 868 Changning Rd, Shanghai 200050, Peoples R China
学科主题Materials Science ; Multidisciplinary; Physics ; Applied
收录类别SCI
公开日期2012-03-24
内容类型期刊论文
源URL[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/95283]  
专题上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文
推荐引用方式
GB/T 7714
Cheng,XL,Lin,ZL,Wang,YJ,et al. Hydrogen annealing effects on epitaxy of SOI wafer[J]. MATERIALS LETTERS,2005,59(2-3):361-365.
APA Cheng,XL,Lin,ZL,Wang,YJ,Xiao,HB,Feng,Z,&Zou,SC.(2005).Hydrogen annealing effects on epitaxy of SOI wafer.MATERIALS LETTERS,59(2-3),361-365.
MLA Cheng,XL,et al."Hydrogen annealing effects on epitaxy of SOI wafer".MATERIALS LETTERS 59.2-3(2005):361-365.
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