Hydrogen annealing effects on epitaxy of SOI wafer | |
Cheng,XL ; Lin,ZL ; Wang,YJ ; Xiao,HB ; Feng,Z ; Zou,SC | |
刊名 | MATERIALS LETTERS |
2005 | |
卷号 | 59期号:2-3页码:361-365 |
关键词 | SILICON-ON-INSULATOR SIMOX |
ISSN号 | 0167-577X |
通讯作者 | Cheng, XL, Chinese Acad Sci, Shanghai Inst Microsyst & Informat Technol, Ion Beam Lab, 868 Changning Rd, Shanghai 200050, Peoples R China |
学科主题 | Materials Science ; Multidisciplinary; Physics ; Applied |
收录类别 | SCI |
公开日期 | 2012-03-24 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/95283] |
专题 | 上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Cheng,XL,Lin,ZL,Wang,YJ,et al. Hydrogen annealing effects on epitaxy of SOI wafer[J]. MATERIALS LETTERS,2005,59(2-3):361-365. |
APA | Cheng,XL,Lin,ZL,Wang,YJ,Xiao,HB,Feng,Z,&Zou,SC.(2005).Hydrogen annealing effects on epitaxy of SOI wafer.MATERIALS LETTERS,59(2-3),361-365. |
MLA | Cheng,XL,et al."Hydrogen annealing effects on epitaxy of SOI wafer".MATERIALS LETTERS 59.2-3(2005):361-365. |
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