Optimal transitions in beta-FeSi2 films

	Optimal transitions in beta-FeSi2 films
	Wang,LW ; Ostling,M ; Yang,K ; Qin,LH ; Lin,CL ; Chen,XD ; Zou,SC ; Zheng,YX ; Qian,YH
刊名	PHYSICAL REVIEW B
	1996
卷号	54 期号:16 页码:11126-11128
关键词	IRON DISILICIDE BAND FESI2
ISSN号	0163-1829
通讯作者	Wang, LW, ROYAL INST TECHNOL,ELECTRUM 229,S-16440 KISTA,SWEDEN
学科主题	Physics ; Condensed Matter
收录类别	SCI
公开日期	2012-03-25
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.sim.ac.cn/handle/331004/98671]
专题	上海微系统与信息技术研究所_功能材料与器件_期刊论文（1999年以前)
推荐引用方式 GB/T 7714	Wang,LW,Ostling,M,Yang,K,et al. Optimal transitions in beta-FeSi2 films[J]. PHYSICAL REVIEW B,1996,54(16):11126-11128.
APA	Wang,LW.,Ostling,M.,Yang,K.,Qin,LH.,Lin,CL.,...&Qian,YH.(1996).Optimal transitions in beta-FeSi2 films.PHYSICAL REVIEW B,54(16),11126-11128.
MLA	Wang,LW,et al."Optimal transitions in beta-FeSi2 films".PHYSICAL REVIEW B 54.16(1996):11126-11128.