| 磁控溅射制备AlCrWTaTiNb高熵合金薄膜低温等离子体氮化 | |
| 马铭; 任瑛; 侯晓多; 陈国清; 张贵锋 | |
| 刊名 | 大连理工大学学报
 |
| 2019 | |
| 卷号 | 59页码:28-34 |
| 关键词 | 多元高熵合金薄膜 低温渗氮 力学性能 |
| ISSN号 | 1000-8608 |
| URL标识 | 查看原文 |
| WOS记录号 | [db:dc_identifier_wosid] |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| URI标识 | http://www.corc.org.cn/handle/1471x/3234078 |
| 专题 | 大连理工大学 |
| 作者单位 | 1.大连理工大学材料科学与工程学院, 辽宁 大连 116024 2.大连理工大学三束材料改性教育部重点实验室, 辽宁 大连 116024 3.河南工业大学材料科学与工程学院,河南 郑州,450001 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 马铭,任瑛,侯晓多,等. 磁控溅射制备AlCrWTaTiNb高熵合金薄膜低温等离子体氮化[J]. 大连理工大学学报,2019,59:28-34. |
| APA | 马铭,任瑛,侯晓多,陈国清,&张贵锋.(2019).磁控溅射制备AlCrWTaTiNb高熵合金薄膜低温等离子体氮化.大连理工大学学报,59,28-34. |
| MLA | 马铭,et al."磁控溅射制备AlCrWTaTiNb高熵合金薄膜低温等离子体氮化".大连理工大学学报 59(2019):28-34. |
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