半导体器件及其制造方法
刘洪刚; 殷华湘; 罗军; 赵超; 陈大鹏
2014-08-26
著作权人中国科学院微电子研究所
专利号US8816326
国家美国
文献子类发明专利
英文摘要

A semiconductor device, which comprises: a semiconductor substrate; a channel region on the semiconductor substrate, said channel region including a quantum well structure; a source region and a drain region on the sides of the channel region; a gate structure on the channel region; wherein the materials for the channel region, the source region and the drain region have different energy bands, and a tunneling barrier structure exists between the source region and the channel region.

公开日期2013-05-10
申请日期2011-11-25
语种中文
内容类型专利
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/13206]  
专题微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心
作者单位中国科学院微电子研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
刘洪刚,殷华湘,罗军,等. 半导体器件及其制造方法. US8816326. 2014-08-26.
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