Role of interface dipole in metal gate/high-k effective work function modulation by aluminum incorporation | |
Yan, L; Zhang, XW; Xiao, ZS; Chu, PK; Wang, WW; Yang, ZC; Huang, AP | |
2009 | |
内容类型 | 外文期刊 |
源URL | [http://10.10.10.126/handle/311049/8988] ![]() |
专题 | 微电子研究所_集成电路先导工艺研发中心 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Yan, L,Zhang, XW,Xiao, ZS,et al. Role of interface dipole in metal gate/high-k effective work function modulation by aluminum incorporation. 2009. |
个性服务 |
查看访问统计 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论