The reactive ion etching of Bi2Ti2O7 thin films on silicon substrates and its image in atomic force microscopy
Wang, Z; Sun, DL; Hu, JF; Cui, DL; Xu, XH; Wang, D; Zhang, Y; Wang, M; Wang, H; Chen, HC
2002
内容类型外文期刊
源URL[http://10.10.10.126/handle/311049/8772]  
专题微电子研究所_回溯数据库(1992-2008年)
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GB/T 7714
Wang, Z,Sun, DL,Hu, JF,et al. The reactive ion etching of Bi2Ti2O7 thin films on silicon substrates and its image in atomic force microscopy. 2002.
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