偏二甲肼在氟化镁涂层表面的吸附与反应 | |
舒勇华; 刘宏立; 樊菁; 崔季平 | |
刊名 | 化学物理学报/CHINESE JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS |
2005 | |
卷号 | 18期号:3页码:406-410 |
ISSN号 | 1003-7713 |
其他题名 | Absorption and reactions of 1,1-dimethyl-hydrazine on the surface of magnesium fluoride coating |
中文摘要 | 研究了偏二甲肼在氟化镁涂层表面的吸附和化学反应情况.首先用液相或气相偏二甲肼沾染氟化镁涂层表面,再将涂层置于真空环境足够长时间,然后通过对比沾染前、后涂层表面的红外吸收光谱、X射线光电子能谱和漫反射率,了解涂层表面的吸附状况和性能变化.实验表明,覆盖于氟化镁涂层表面的偏二甲肼液膜分子,在真空环境下充分脱附的时间约为2 h,充分脱附后的涂层表面只有单层化学吸附存在,其质量密度约为 27 ng/cm2,实验后氟化镁涂层表面的漫反射率下降了10%~15%;在-10 ℃的偏二甲肼饱和蒸气中沾染10 min后,氟化镁涂层表面的原子组成和漫反射率变化很小,红外吸收光谱也没有偏二甲肼特征峰出现. |
学科主题 | 力学 |
类目[WOS] | #N/A |
研究领域[WOS] | #N/A |
收录类别 | SCI ; CSCD |
语种 | 中文 |
CSCD记录号 | CSCD:1962556 |
WOS记录号 | WOS:000230330400022 |
公开日期 | 2007-06-15 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://dspace.imech.ac.cn/handle/311007/15537] |
专题 | 力学研究所_力学所知识产出(1956-2008) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 舒勇华,刘宏立,樊菁,等. 偏二甲肼在氟化镁涂层表面的吸附与反应[J]. 化学物理学报/CHINESE JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS,2005,18(3):406-410. |
APA | 舒勇华,刘宏立,樊菁,&崔季平.(2005).偏二甲肼在氟化镁涂层表面的吸附与反应.化学物理学报/CHINESE JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS,18(3),406-410. |
MLA | 舒勇华,et al."偏二甲肼在氟化镁涂层表面的吸附与反应".化学物理学报/CHINESE JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS 18.3(2005):406-410. |
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