掺镱硅酸钆激光晶体及其制备方法; 掺镱硅酸钆激光晶体及其制备方法
赵广军 ; 徐军 ; 介明印 ; 苏良碧 ; 徐晓东 ; 张连翰 ; 何晓明
2007-07-11
专利国别中国
专利号ZL200510025560.3
专利类型发明
权利人中国科学院上海光学精密机械研究所
中文摘要一种掺镱硅酸钆激光晶体及其制备方法,该激光晶体的分子式为:Yb2xGd2(1-x)SiO5,其中x的取值范围为:0.001≤x≤0.4。其制备方法包括配料、混合粉料、烧结、籽晶、提拉法生长和退火处理等步骤。本发明掺镱硅酸钆激光晶体是一种宽调谐超快激光晶体,具有:宽发射1010-1100nm,离子反转数β=0.5时,半高宽约为70nm;较高的热导率;晶体生长容易,物化性能稳定等优点。
公开日期2011-07-14 ; 2011-07-15
申请日期2005-04-29
收录类别专利
语种中文
专利申请号CN200510025560.3
内容类型专利
源URL[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/10082]  
专题上海光学精密机械研究所_激光与光电子功能材料研发中心
推荐引用方式
GB/T 7714
赵广军,徐军,介明印,等. 掺镱硅酸钆激光晶体及其制备方法, 掺镱硅酸钆激光晶体及其制备方法. ZL200510025560.3. 2007-07-11.
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