| 高功率脉冲磁控溅射制备类石墨碳膜的光学和电学特性研究 | |
| 王丽; 柯培玲; 汪爱英 | |
| 2017 | |
| 页码 | 1 |
| 关键词 | 高功率脉冲磁控溅射 类石墨碳膜 微观结构 光学特性 电学特性 |
| 产权排序 | 中国科学院海洋新材料与应用技术重点实验室浙江省海洋材料与防护技术重点实验室中国科学院宁波材料技术与工程研究所; |
| 英文摘要 | 类石墨碳膜(GLC)是一种以sp~2键含量为主的薄膜,具有优良的摩擦学性能、红外吸收特性、以及良好的导电性,在半导体、红外探测和光学窗口等领域具有广泛的应用前景。作为一种非晶碳薄膜,其组分和结构的变化显著影响薄膜的光学和电学性能。高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)能产生高密度的等离子体,便于控制沉积粒子能量以细致调控薄膜的结构和性能。因此,本文采用HiPIMS技术,在单晶硅和石英基底上沉积类石墨碳膜,通过改变基底偏压的大小调节沉积过程中的粒子能量,进一步研究薄膜微观结构与其光学和电学特性之间的联系。采用Raman光谱、X射线光电子能谱分析薄膜的微观结构,包括sp~2的含量和团簇尺寸的大小。使用傅里叶红外光谱仪、分光光度计、椭偏仪测量DLC薄膜的红外和紫外波段的透过率、光学带隙和光学常数。薄膜的电学性能通过霍尔效应测试仪和半导体参数仪测量。结果表明:基底偏压显著改变薄膜的微观结构,偏压为-50 V时,sp~2团簇尺寸达到最大值,薄膜光学带隙及电阻率达到最小值,而后随偏压增加,sp~2团簇尺寸先减小后增加,光学带隙及电阻率先增加后减小,符合团簇模型。因此,GLC薄膜中sp~2团簇尺寸的大小决定了薄膜光学和电性学能。 |
| 公开日期 | 2018-12-04 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| 源URL | [http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/16671]  |
| 专题 | 2017专题 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王丽,柯培玲,汪爱英. 高功率脉冲磁控溅射制备类石墨碳膜的光学和电学特性研究[J],2017:1. |
| APA | 王丽,柯培玲,&汪爱英.(2017).高功率脉冲磁控溅射制备类石墨碳膜的光学和电学特性研究.,1. |
| MLA | 王丽,et al."高功率脉冲磁控溅射制备类石墨碳膜的光学和电学特性研究".(2017):1. |
| 个性服务 |
| 查看访问统计 |
| 相关权益政策 |
| 暂无数据 |
| 收藏/分享 |
除非特别说明，本系统中所有内容都受版权保护，并保留所有权利。
修改评论