一种基于超薄金属膜的透明电极及其制备方法和应用; 一种基于超薄金属膜的透明电极及其制备方法和应用; 一种基于超薄金属膜的透明电极及其制备方法和应用; 一种基于超薄金属膜的透明电极及其制备方法和应用
宋伟杰; 黄金华; 李佳; 杨晔; 许君君; 鲁越晖; 朱超挺
2017-11-24
著作权人中国科学院宁波材料技术与工程研究所
专利号CN107393979A
国家中国
文献子类发明
英文摘要本发明公开了一种基于超薄金属膜的透明电极,所述透明电极自下而上依次包括透明基底、金属层和金属氧化物层,所述金属层的厚度为3~12nm。本发明通过单分子自组装层修饰基底,在基底上直接沉积超薄金属层,通过单分子自组装层的作用提高超薄金属膜的连续性和导电性;或通过金属的共沉积,直接在基底上实现超薄金属膜的连续生长。然后在上面沉积一层金属氧化物层作为减反增透层,得到双层膜系结构,通过对双层膜系结构的设计和优化,实现透过率的最大化。本发明还公开了该基于超薄金属膜的透明电极的制备方法及其在光电器件中的应用,该透明电极能同时兼顾良好导电性和高透光率。
公开日期2017-11-24
申请日期2017-06-09
状态公开
内容类型专利
源URL[http://ir.nimte.ac.cn/handle/174433/15240]  
专题宁波材料技术与工程研究所_专利成果
推荐引用方式
GB/T 7714
宋伟杰,黄金华,李佳,等. 一种基于超薄金属膜的透明电极及其制备方法和应用, 一种基于超薄金属膜的透明电极及其制备方法和应用, 一种基于超薄金属膜的透明电极及其制备方法和应用, 一种基于超薄金属膜的透明电极及其制备方法和应用. CN107393979A. 2017-11-24.
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