A simulation study of structural and optical properties in Cu ions implantation single-crystal rutile

	A simulation study of structural and optical properties in Cu ions implantation single-crystal rutile
	Liu, H; Li, GP; Xu, NN; Lin, QL; Yang, L; Wang, CL
刊名	ACTA PHYSICA SINICA
	2016-10-20
卷号	65 期号:20 页码:206102-1-206102-9
关键词	rutile band structure optical properties Cu 金红石能带结构光学性质铜
ISSN号	1000-3290
其他题名	Cu离子注入单晶TiO_2微结构及光学性质的模拟研究
通讯作者	Li, GP (reprint author), Lanzhou Univ, Sch Nucl Sci & Technol, Lanzhou 730000, Peoples R China.
中文摘要	TiO_2是一种新型的第三代半导体材料,具有重要的应用价值.Cu离子掺杂单晶金红石TiO_2,可以改善TiO_2对光谱的响应范围,提高转化效率.本文利用第一性原理分别研究了Cu离子填隙、Cu替代Ti、氧空位、钛空位以及含有复合缺陷时金红石TiO_2结构及其相应光学性质的变化.结果表明,金红石的价带顶主要由O 2p轨道贡献,导带底主要由Ti 3d轨道贡献;掺杂Cu离子后会在能隙中产生两条新的杂质能级;Ti空位使得晶体费米能量降低,在价带顶产生新能级;O空位使得费米能量升高,在导带底产生新能级,表现出n型半导体性质.通过对含有复合缺陷的晶体电子结构的分析,得到同时含有O空位和Cu填隙时对晶体在可见光范围的吸收影响最大.
学科主题	Physics
出版地	BEIJING
语种	中文
WOS记录号	WOS:000389465700024
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.lzu.edu.cn/handle/262010/189154]
专题	核科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	Liu, H,Li, GP,Xu, NN,et al. A simulation study of structural and optical properties in Cu ions implantation single-crystal rutile[J]. ACTA PHYSICA SINICA,2016,65(20):206102-1-206102-9.
APA	Liu, H,Li, GP,Xu, NN,Lin, QL,Yang, L,&Wang, CL.(2016).A simulation study of structural and optical properties in Cu ions implantation single-crystal rutile.ACTA PHYSICA SINICA,65(20),206102-1-206102-9.
MLA	Liu, H,et al."A simulation study of structural and optical properties in Cu ions implantation single-crystal rutile".ACTA PHYSICA SINICA 65.20(2016):206102-1-206102-9.