类金刚石膜不同能量下的离子注入

	类金刚石膜不同能量下的离子注入
	项金钟; 郑志豪; 熊京; 张仿清
刊名	ACTA PHYSICA SINICA
	1990-04-01
期号	3 页码:420-423
关键词	类金刚石膜离子注入同能量注入能量光学能隙氢含量电阻率 C—H键红外吸收谱 Raman谱
ISSN号	1000-3290
中文摘要	本文对等离子体气相沉积法制备的类金刚石膜(a-C:H)进行了离子注入研究。注入剂量固定为5×10~5Ar/cm~2,注入能量分别为50,100,140和180keV。离子注入前后分别作了红外吸收谱,Raman谱,光学能隙,氢含量和电阻率的测量。结果表明,注入离子破坏了膜中的C—H键,sp~2和sp~3态都减少,而(sp~2/sp~3)比值增大;光学能隙E_(opt),电阻率以及氢含量随着注入离子能量的增加而减少,而在180keV时,不再有明显变化。文中对上述结果进行了分析和讨论。
学科主题	Physics
出版地	BEIJING
语种	中文
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.lzu.edu.cn/handle/262010/130454]
专题	核科学与技术学院_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	项金钟,郑志豪,熊京,等. 类金刚石膜不同能量下的离子注入[J]. ACTA PHYSICA SINICA,1990(3):420-423.
APA	项金钟,郑志豪,熊京,&张仿清.(1990).类金刚石膜不同能量下的离子注入.ACTA PHYSICA SINICA(3),420-423.
MLA	项金钟,et al."类金刚石膜不同能量下的离子注入".ACTA PHYSICA SINICA .3(1990):420-423.