采用直流脉冲等离子体化学气相沉积制备的含氢非晶碳膜的应力释放行为

	采用直流脉冲等离子体化学气相沉积制备的含氢非晶碳膜的应力释放行为
	王琦; 王舟; 张俊彦; 贺德衍
	2009-05-08
会议名称	2009年全国青年摩擦学学术会议
关键词	非晶碳应力释放等离子化学结构表征薄膜结构气相沉积技术类金刚石碳膜直流脉冲样品结构
页码	6
中文摘要	采用直流脉冲等离子化学气相沉积技术在Si(100)衬底上制备含氢非晶碳膜,制备的薄膜采用拉曼谱对结构表征,采用扫描电镜对应力释放花纹进行表征。除了众所周知的正弦型和花状等应力释放花纹,两种不同的花状花纹被观察到,一种是环状和正弦相互竞争存在的花纹,一种是带小齿的陀螺型花纹。我们通过平板起皱理论对花纹进行了分析。
会议录	2009年全国青年摩擦学学术会议论文集
语种	中文
内容类型	会议论文
源URL	[http://202.201.7.4/handle/262010/107861]
专题	物理科学与技术学院_会议论文
推荐引用方式 GB/T 7714	王琦,王舟,张俊彦,等. 采用直流脉冲等离子体化学气相沉积制备的含氢非晶碳膜的应力释放行为[C]. 见:2009年全国青年摩擦学学术会议.