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类金刚石薄膜的紫外辐照研究
刘贵昂; 谢二庆; 王天民
刊名功能材料
2002-10-25
期号5页码:497-499
关键词类金刚石薄膜 紫外光辐照 Raman光谱 红外光谱 石墨化
其他题名类金刚石薄膜的紫外辐照研究
中文摘要对射频等离子体方法制备的类金刚石 (以下简称DLC)薄膜样品进行了紫外辐照。采用电阻率、Raman光谱及红外光谱研究了紫外光 (以下简称UV)辐照对DLC薄膜结构与特性的影响。Raman光谱表明 :紫外光对DLC薄膜中SP3C—H键的破坏作用非常明显 ,红外 (IR)光谱结果进一步验证了这一结果。经UV辐照后 ,DLC薄膜的电阻率呈变小趋势 ,这说明薄膜被强烈氧化 ,最后呈现石墨化趋势。
语种中文
内容类型期刊论文
源URL[http://202.201.7.4:8080/handle/262010/102357]  
专题物理科学与技术学院_期刊论文
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GB/T 7714
刘贵昂,谢二庆,王天民. 类金刚石薄膜的紫外辐照研究[J]. 功能材料,2002(5):497-499.
APA 刘贵昂,谢二庆,&王天民.(2002).类金刚石薄膜的紫外辐照研究.功能材料(5),497-499.
MLA 刘贵昂,et al."类金刚石薄膜的紫外辐照研究".功能材料 .5(2002):497-499.
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