| 题名 | 约束刻蚀剂层技术用于Ni-Ti合金、熔融石英和ZnO纳米线阵列的三维微加工的研究; Three -Dimensional Micromachining on Ni-Ti alloy, fused quartz and ZnO nanowires array using CELT |
| 作者 | 马信洲 |
| 答辩日期 | 2007 ; 2007 |
| 导师 | 周勇亮 ; 汤儆 |
| 关键词 | Ni-Ti合金 熔融石英 ZnO纳米线 约束刻蚀剂层技术 电化学微加工 Ni-Ti alloy fused quartz ZnO nanowires Confined Etchant Layer Technique(CELT) electrochemical micromachining |
| 英文摘要 | 随着微机电系统、微光学、微芯片等领域的发展，促进了微/纳加工技术的发展与完善。微细加工技术是当今微机电系统领域研究的热点和核心，是人类探究微纳世界的必不可少的工具。一个工艺简单、用途广泛、能批量加工出复杂的三维微结构的加工技术是人们梦寐以求的。1992年厦门大学田昭武院士提出的约束刻蚀剂层技术(ConfinedEtchantLayerTechnique简称CELT)是一种具有距离敏感性的化学刻蚀技术，并且工艺简单，可加工的材料广泛，更重要的是适用于复杂三维微结构的加工。从CELT原理的提出至今已经在实验和理论方面发展了十余年，在国际微加工领域有一定的影响。然而至今CELT仅成功地应用于半导体和...; The development of the micro-electro-mechanical systems (MEMS), micro-optics, microchips helps the advancement of micromachining technology that is the hotspot of the recent research and the core of MEMS. The requirements for a new approach of micromachining include the ability to fabricate complex 3D microstructures, high output and batch process. The Confined Etchant Layer Technique (CELT) as a ...; 学位：工学硕士; 院系专业：化学化工学院化学系_应用化学; 学号：200425129 |
| 语种 | zh_CN |
| 出处 | http://210.34.4.13:8080/lunwen/detail.asp?serial=15774 |
| 内容类型 | 学位论文 |
| 源URL | [http://dspace.xmu.edu.cn/handle/2288/35597]  |
| 专题 | 化学化工－学位论文 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 马信洲. 约束刻蚀剂层技术用于Ni-Ti合金、熔融石英和ZnO纳米线阵列的三维微加工的研究, Three -Dimensional Micromachining on Ni-Ti alloy, fused quartz and ZnO nanowires array using CELT[D]. 2007, 2007. |
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