以氧化还原电位作为缺氧-好氧法工艺反硝化反应模糊控制的参数 | |
马勇 ; 彭永臻 ; 王淑莹 ; 王晓莲 | |
2012-04-24 ; 2012-04-24 | |
关键词 | A/O工艺 氧化还原电位 内循环回流量控制 外碳源投加控制 模糊控制 |
中文摘要 | 以淀粉废水为研究对象,重点研究了氧化还原电位(ORP)作为缺氧-好氧法(A/O)工艺反硝化反应模糊控制参数的可行性,研究表明缺氧区末端硝酸氮浓度与ORP值具有很好的相关性,可以作为A/O工艺内循环回流量和外碳源投加的模糊控制参数,并建立了ORP模糊控制器。单独控制内循环回流量维持反硝化区末端ORP值为(-86±2)mV,或单独控制外碳源投加量维持反硝化区末端ORP值为(-90±2)mV,可实现A/O工艺脱氮的最优控制。 |
原文出处 | http://guest.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=XDHG200402012&dbname=CJFQ2004 |
内容类型 | 期刊论文 |
源URL | [http://hdl.handle.net/123456789/18774] |
专题 | 北京工业大学 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 马勇,彭永臻,王淑莹,等. 以氧化还原电位作为缺氧-好氧法工艺反硝化反应模糊控制的参数[J],2012, 2012. |
APA | 马勇,彭永臻,王淑莹,&王晓莲.(2012).以氧化还原电位作为缺氧-好氧法工艺反硝化反应模糊控制的参数.. |
MLA | 马勇,et al."以氧化还原电位作为缺氧-好氧法工艺反硝化反应模糊控制的参数".(2012). |
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