| 太阳选择性吸收涂层系列讲座(14) 活性环境空心阴极溅射特性与沉积Al_2O_3、ZnO掺杂和In_2O_3:Mo薄膜的应用(下) | |
| Delahoy A E ; Guo S Y ; Paduraru C ; 范崇治 ; Delahoy A E ; Guo S Y ; Paduraru C | |
| 2016-03-30 ; 2016-03-30 | |
| 关键词 | TB383.2 |
| 其他题名 | Reactive-environment,hollow cathode sputtering:Basic characteristics and application to Al_2O_3,doped ZnO, and In_2O_3:Mo |
| 中文摘要 | <正>2.4 ZnO掺杂透明导电氧化物沉积透明导电氧化物薄膜,例如SnO2、ITO、ZnO,有很多应用,如建筑玻璃、汽车、显示器、光伏器件。制备掺杂氧化锌膜用射频或脉冲直流溅射陶瓷靶,它含有ZnO和2%(重量比)Al2O3,无论如何靶的代价是过高的,而能用的功率密度是有限的。最近反应磁控溅射Zn:Al靶受到关注,虽然它需电压控制和氧分压强的闭环控制以保证工作在金属/氧化物过渡模式。 |
| 语种 | 中文 ; 中文 |
| 内容类型 | 期刊论文 |
| 源URL | [http://ir.lib.tsinghua.edu.cn/ir/item.do?handle=123456789/142085]  |
| 专题 | 清华大学 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | Delahoy A E,Guo S Y,Paduraru C,等. 太阳选择性吸收涂层系列讲座(14) 活性环境空心阴极溅射特性与沉积Al_2O_3、ZnO掺杂和In_2O_3:Mo薄膜的应用(下)[J],2016, 2016. |
| APA | Delahoy A E.,Guo S Y.,Paduraru C.,范崇治.,Delahoy A E.,...&Paduraru C.(2016).太阳选择性吸收涂层系列讲座(14) 活性环境空心阴极溅射特性与沉积Al_2O_3、ZnO掺杂和In_2O_3:Mo薄膜的应用(下).. |
| MLA | Delahoy A E,et al."太阳选择性吸收涂层系列讲座(14) 活性环境空心阴极溅射特性与沉积Al_2O_3、ZnO掺杂和In_2O_3:Mo薄膜的应用(下)".(2016). |
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