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	Ti表面磁控溅射Nb膜的研究
	姚为 ; 吴爱萍 ; 邹贵生 ; 任家烈 ; Yao Wei ; Wu Aiping ; Zou Guisheng ; Ren Jialie
	2010-07-15 ; 2010-07-15
会议名称	中国真空学会2006年学术年会论文集 ; 中国真空学会2006年学术年会 ; 中国陕西西安 ; CNKI ; 中国真空学会
关键词	磁控溅射 铌膜 基体温度 膜厚 真空退火 附着性 Magnetron sputtering Nb films Substrate temperature Film thickness Vacuum annealing Adhesion TB43 O484.5
其他题名	Study of Nb Films Deposited on Ti Substrates by Magnetron Sputtering
中文摘要	Ti 表面磁控溅射 Nb 膜作为 Ti 与其他金属连接的合金层或过渡层有着重要的研究意义和实用价值。本文研究了基体温度、薄膜厚度、真空退火对 Nb 膜附着性和组织结构的影响,应用扫描电镜观察了膜层表面和界面,用 X 射线衍射分析研究了膜层物相组成,用划痕法测试了薄膜的附着性。结果表明:薄膜组织为纤维状晶粒;溅射时对基体适当加热有利于成膜的致密性;一定温度范围内的真空退火可以提高附着性,但不显著,温度达到500℃后,薄膜发生剥落;Nb 膜厚度从500nm 增加到2000nm,晶粒变大,附着性变差;溅射及退火过程中均无新相生成。; Nb films were grown by magnetron sputtering on Ti substrate,acting as a diffusion layer or interlayer to weld Ti onto other met- als or alloys.The influence of the film growth conditions,including substrate temperature,film thickness and annealing temperature,on the inter- facial adhesion and film texture was studied with X-ray diffraction,scanning electron microscopy and conventional mechanical techniques.The results show that substrate temperature and annealing temperatures affect the quality of the films.For instance,an elevated substrate temperature may slightly improve the film compactness;and appropriately annealing in vacuum may enhance its interfacial adhesion a little.However,an- healed at 500℃,the Nb films peel off.As Nb film thickness increases from 500 um to 2000 nm,its grain size grows;its interfacial adhesion de- creases.No phase other than fibre-like grains was observed.
会议录出版者	《真空科学与技术学报》杂志社
语种	中文 ; 中文
内容类型	会议论文
源URL	[http://hdl.handle.net/123456789/67659]
专题	清华大学
推荐引用方式 GB/T 7714	姚为,吴爱萍,邹贵生,等. Ti表面磁控溅射Nb膜的研究[C]. 见:中国真空学会2006年学术年会论文集, 中国真空学会2006年学术年会, 中国陕西西安, CNKI, 中国真空学会.

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