溅射气压对Ni_(80)Fe_(20)薄膜微结构和各向异性磁电阻的影响

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	溅射气压对Ni_(80)Fe_(20)薄膜微结构和各向异性磁电阻的影响
	王合英 ; 陈欢 ; 梁栋 ; 张智巍 ; 孙文博
刊名	http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=QHXB200712022&dbname=CJFQ2007
	2012-04-22 ; 2012-04-22
关键词	Ni80Fe20薄膜结构各向异性磁电阻溅射气压
中文摘要	为改善Ni80Fe20薄膜的性能,研究不同溅射气压对薄膜微结构和各向异性磁电阻的影响。用磁控溅射方法制备Ni80Fe20薄膜,用X射线衍射和扫描电子显微镜分析其结构,用四探针方法测量其各向异性磁电阻。实验研究发现,较高的溅射气压下制备的Ni80Fe20薄膜各向异性磁电阻比较低,薄膜磁化到饱和需要的磁场也比较大。在较低的溅射气压(0.2、0.5 Pa)下制备的Ni80Fe20薄膜具有较高的各向异性磁电阻3.7%和4.2%,而且饱和磁化场低(低于1kA/m)。分析结果表明随着溅射气压的变化,Ni80Fe20薄膜的晶格常数、颗粒大小和均匀性等微结构发生变化,导致薄膜的各向异性磁电阻效应差别很大。
语种	中文
其他责任者	清华大学物理系 ; 清华大学物理系北京100084 ; 北京100084
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.calis.edu.cn/hdl/211310/1824]
专题	清华大学
推荐引用方式 GB/T 7714	王合英,陈欢,梁栋,等. 溅射气压对Ni_(80)Fe_(20)薄膜微结构和各向异性磁电阻的影响[J]. http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=QHXB200712022&dbname=CJFQ2007,2012, 2012.
APA	王合英,陈欢,梁栋,张智巍,&孙文博.(2012).溅射气压对Ni_(80)Fe_(20)薄膜微结构和各向异性磁电阻的影响.http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=QHXB200712022&dbname=CJFQ2007.
MLA	王合英,et al."溅射气压对Ni_(80)Fe_(20)薄膜微结构和各向异性磁电阻的影响".http://epub.edu.cnki.net/grid2008/brief/detailj.aspx?filename=QHXB200712022&dbname=CJFQ2007 (2012).