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	Investigation of electron-phonon coupling in epitaxial silicene by in situ Raman spectroscopy
	Zhuang, JC ; Xu, X ; Du, Y ; Wu, KH ; Chen, L ; Hao, WC ; Wang, JO ; Yeoh, WK ; Wang, XL ; Dou, SX
刊名	PHYSICAL REVIEW B
	2015
卷号	91期号:16
公开日期	2016-12-26
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.iphy.ac.cn/handle/311004/61092]
专题	物理研究所_物理所公开发表论文_物理所公开发表论文_期刊论文
推荐引用方式 GB/T 7714	Zhuang, JC,Xu, X,Du, Y,et al. Investigation of electron-phonon coupling in epitaxial silicene by in situ Raman spectroscopy[J]. PHYSICAL REVIEW B,2015,91(16).
APA	Zhuang, JC.,Xu, X.,Du, Y.,Wu, KH.,Chen, L.,...&Dou, SX.(2015).Investigation of electron-phonon coupling in epitaxial silicene by in situ Raman spectroscopy.PHYSICAL REVIEW B,91(16).
MLA	Zhuang, JC,et al."Investigation of electron-phonon coupling in epitaxial silicene by in situ Raman spectroscopy".PHYSICAL REVIEW B 91.16(2015).

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