基于套刻误差测试标记的彗差检测技术

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	基于套刻误差测试标记的彗差检测技术; Novel method for measuring coma with fine overlay test marks
	马明英 ; 王向朝 ; 王帆 ; 施伟杰 ; 张冬青
刊名	光学学报
	2006
卷号	26 期号:7 页码:1037
关键词	光学测量光刻机彗差套刻误差投影物镜
ISSN号	0253-2239
其他题名	Novel method for measuring coma with fine overlay test marks
中文摘要	为了满足光刻机投影物镜彗差测量精度的要求，提出一种基于套刻误差测试标记的彗差检测技术，分析了彗差对套刻误差测试标记空间像的影响，详细叙述了该技术的测量原理，并利用PROLITH光刻仿真软件对不同数值孔径与部分相干因子设置下套刻误差相对于彗差的灵敏度系数进行了仿真实验。结果表明，与目前国际上通常使用的投影物镜彗差检测技术相比，该技术在传统照明条件下灵敏度系数Kz7与Kz14的变化范围分别增加了27．5％和34．3％，而在环形照明条件下则分别增加了20．4％和22．1％，因此彗差的测量精度可提高20％以上。
分类号	TN305.7
收录类别	ei
语种	中文
公开日期	2009-09-18
内容类型	期刊论文
源URL	[http://ir.siom.ac.cn/handle/181231/1904]
专题	上海光学精密机械研究所_信息光学开放实验室
推荐引用方式 GB/T 7714	马明英,王向朝,王帆,等. 基于套刻误差测试标记的彗差检测技术, Novel method for measuring coma with fine overlay test marks[J]. 光学学报,2006,26(7):1037, 1042.
APA	马明英,王向朝,王帆,施伟杰,&张冬青.(2006).基于套刻误差测试标记的彗差检测技术.光学学报,26(7),1037.
MLA	马明英,et al."基于套刻误差测试标记的彗差检测技术".光学学报 26.7(2006):1037.